(조세금융신문=김필주 기자) 기획재정부가 11일 우리나라의 반도체 산업에 대한 세제지원 규모가 미국·일본 등 주요 국가와 비교해 높은 수준이라고 강조했다.
이날 한 일간매체는 보도를 통해 삼성전자가 20조원을 투입하는 경기 용인 기흥 연구개발 단지 등 반도체 R&D(연구개발)용 시설·장비 투자의 국내 세액공제율이 1%로 미국(25%)과 비교해 25분의 1에 불과하다고 지적한 바 있다.
이같은 보도에 대해 기재부는 “미국이 반도체 연구개발 시설 장비에 25% 세액공제를 적용한다는 것은 사실과 다르다”며 “미국은 반도체 제조장비에 25% 세액공제를 적용하는데 이는 한국의 사업화시설 세액공제(기본공제 15%+증가분 10%)에 해당하는 수준”이라고 반박했다.
그러면서 “미국은 연구개발세액공제(Section41, Credit for increasing research activities) 대상에서도 감가상각 대상 시설·장치에서 발생한 비용은 적용대상에서 제외한다”며 “아울러 미국은 연구개발 자산을 대상으로 5년 상각제도를 적용하고 있다”고 덧붙였다.
기재부에 따르면 우리나라는 반도체 연구개발 시설장비에 통합투자세액공제를 적용하고 있으며 법인세법상 5년 가속상각제도와 선택해 적용한다. 또한 대기업의 경우 연구시설 투자세액공제는 기본공제 1%에 증가분 3% 세액공제를 더해 적용하고 있다.
기재부 관계자는 “주요 국가별 반도체 등 국가전략기술 R&D 비용의 세액공제 지원 규모를 살펴보면 미국은 당기 비용기준 50% 초과액에 공제율 20% 적용하기에 당기분 환산시 실제 세액공제는 10% 수준에 불과하다”면서 “반면 우리나라는 최소 3배(30~40%) 이상의 세액공제를 적용한다”고 설명했다.
이어 “반면 일본은 당기 비용의 최대 14%의 공제율을 적용한다”면서 “여기에 일본은 연구개발시설 및 반도체 시설투자를 대상으로 한 세액공제 제도가 없고 올해에서야 반도체 생산세액공제를 도입했다. 이마저도 투자시점이 아닌 가동 후 생산 판매시점부터 세액공제를 적용하며 당해연도 납부세액의 20%를 한도로 적용한다”고 덧붙였다.
또 “대만은 첨단 공정용 설비투자액의 5%를 세액공제(법인세액의 30% 한도)하고 있어 한국의 사업화 시설 투자세액공제와 비교해 공제율이 적다”고 지적했다.
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